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Strickschule: Patentmuster Teil I – Vollpatent

31. Oktober 2016 2 Kommentare

Strickschule Vollpatent
Patentmuster sind echte Klassiker unter den Strickmustern und heute unter dem Namen „Brioche“ wieder voll im Trend! Um einen Teil der möglichen Mustervielfalt soll es in den nächsten Wochen in dieser Strickschulen-Reihe gehen. Los geht es heute mit dem ursprünglichsten Vertreter der Familie: dem Vollpatent.

Das Vollpatent

Das Vollpatent zeichnet sich durch sein großes Volumen aus. Es wird deutlich dicker als ein Rippenmuster, an das es optisch ein wenig erinnert. Zudem ist es relativ elastisch und zieht sich gut zusammen. Deshalb solltet Ihr Euch auch nicht wundern, wenn in diesem Muster gestrickte Projekte zunächst sehr klein erscheinen. Die endgültige Größe erhält das Strickstück erst nach dem Spannen, was hier einen deutlichen Unterschied macht. Auch die Maschenprobe sollte entsprechend leicht gedehnt gemessen werden. Außerdem gilt es hierbei zu beachten, dass nur jede 2. Reihe erscheint! Ihr müsst also die doppelte Anzahl der in der Maschenprobe gezählten Reihen stricken, um die gemessene Höhe zu erreichen.
Das zeigt auch, dass Ihr für Strickstücke im Vollpatentmuster etwa 30–50% mehr Garn einplanen solltet als für glatt rechts Gestricktes.
Durch sein Volumen eignet sich das Vollpatent vor allem für besonders dicke, kuschelige Pullover und Jacken, aber auch Mützen und Schals werden dadurch noch wärmender. Noch ein Vorteil: Vorder- und Rückseite sehen gleich aus, sodass gerade Schals beidseitig getragen werden können.
Wie also wird DAS Wintermuster schlechthin gestrickt? Dafür zeigen wir Euch zwei Möglichkeiten: Patentmuster mit Umschlägen und Patentmuster mit tiefer gestochenen Maschen. Beide haben ihre Vor- und Nachteile – Ihr könnt selbst entscheiden, welche Variante Euch besser liegt und/oder gefällt. Oft bietet es sich auch an, die Garnstruktur zu betrachten und danach zu entscheiden.

Vollpatent mit Umschlägen

Strickschule: Vollpatent mit Umschlägen

Struktur des Patentmusters mit Umschlägen

Diese Methode eignet sich für alle Garne. Besonders bei Flauschgarnen oder anderen Garnen mit unregelmäßigen Strukturen zeigen sich große Vorteile im Vergleich zum Patent mit tiefer gestochenen Maschen, da sich keine Maschen auflösen müssen. Das kann bei Flauschgarnen und anderen Strukturgarnen problematisch sein, weil sich die Fransen untereinander verhaken können. Das weiß wohl jeder, der schon einmal versucht hat, Mohairgarn aufzuribbeln.
Wenn Ihr das Gestrick später zusammennähen möchtet, solltet Ihr eine ungerade Maschenzahl anschlagen, damit neben den Randmaschen linke Maschen liegen. Dadurch trägt die Naht nicht so auf.

Die erste Rückreihe wird wie folgt gestrickt:

1. Reihe (Rückreihe): 1 Randmasche, * 1 Masche rechts, 1 Umschlag, 1 Masche links abheben; ab * bis zu den letzten 2 Maschen wiederholen, 1 Masche rechts, 1 Randmasche.

Bei sämtlichen Umschlägen ist es wichtig, dass diese vor der abgehobenen Masche auf der rechten Nadel landen!

Strickschule: Vollpatent mit Umschlag

Der Umschlag muss vor der abgehobenen Masche auf der rechten Nadel liegen.

Die Hinreihen werden im Prinzip genauso gestrickt:

2. Reihe (Hinreihe): 1 Randmasche, * 1 Umschlag, 1 Masche links abheben, die folgende Masche mit dem Umschlag der Vorreihe rechts zusammenstricken; ab * bis zu den letzten 2 Maschen wiederholen, 1 Umschlag, 1 Masche links abheben, 1 Randmasche.

Strickschule: Vollpatent mit Umschlag abstricken

Die Masche wird mit dem zugehörigen Umschlag rechts gestrickt.

Diese zwei Reihen werden fortlaufend wiederholt.
Eine kleine Hilfestellung: Ab der zweiten Reihe sind die rechten Maschen immer diejenigen, die mit dem Umschlag der Vorreihe zusammengestrickt werden, während die einfachen Maschen links abgehoben werden.

Vollpatent mit tiefer gestochenen Maschen

Strickschule: Vollpatent mit tiefer gestochenen Maschen

Das Vollpatent mit tiefer gestochenen Maschen.

Glatte Garne sind für diese Strickmethode besser geeignet als solche mit Strukturen, da sich beim tieferen Einstechen die darüber liegende Masche auflösen muss.
Auch hier wird eine ungerade Maschenzahl angeschlagen, danach wird zur Vorbereitung des eigentlichen Musters eine Rückreihe gestrickt:

1. Reihe (Rückreihe): Rechts stricken.

Die nächste Reihe, eine Hinreihe, wird für Teile, die nicht zusammengenäht werden müssen, wie folgt gestrickt:

2. Reihe (Hinreihe): 1 Masche abheben, * 1 Masche rechts, dabei eine Reihe tiefer einstechen, 1 Masche links; ab * fortlaufend bis zum Reihenende wiederholen.

Strick-Schule: Vollpatent mit tiefer gestochenen Maschen

Die helle Nadel zeigt auf die Masche, in die eingestochen wird.

Strickschule: Vollpatent mit tiefer gestochenden Maschen

In die rechte Masche wird tiefer eingestochen, dann wird sie rechts gestrickt.


3. Reihe (Rückreihe)
: Die Maschen stricken, wie sie erscheinen, dabei für die rechten Maschen weiterhin eine Reihe tiefer einstechen.

Die zweite und dritte Reihe werden fortlaufend wiederholt.
Durch das tiefere Einstechen liegt die abgestrickte Masche sozusagen doppelt, das gibt dem Patentmuster sein Volumen.

Strickschule: Beide Varianten des Vollpatents

Links: Vollpatent mit Umschlägen. Rechts: Vollpatent mit tiefer gestochenen Maschen

Für welche der beiden Varianten Ihr Euch auch entscheidet: Bei den Randmaschen solltet Ihr Euch auch danach richten, ob die Ränder zusammengenäht werden oder offen bleiben sollen, damit die Ergebnisse in jeder Hinsicht perfekt werden! Hier findet Ihr verschiedene Möglichkeiten für Randmaschen.
Im nächsten Post zeigen wir Euch, wie das Halbpatent gestrickt wird.

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Dieser Beitrag wurde am 31. Oktober 2016 von Lena in veröffentlicht. Schlagworte:

Über Lena

Ich liebe Farben und Strümpfe, deshalb habe ich (fast) immer ein Paar bunte Socken auf den Nadeln. Wenn die mal stillstehen, habe ich einen dicken Wälzer in der Hand oder tobe mich beim Sport aus.

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2 Kommentare zu "Strickschule: Patentmuster Teil I – Vollpatent"

  1. Deleted User am

    17. Januar 2017 um 20:51

    Gut erklärt.

    Antworten
  2. Deleted User am

    1. Januar 2017 um 23:46

    Sehr gut erklärt

    Antworten
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